薄膜作製応用ハンドブック - 多賀康訓

多賀康訓 薄膜作製応用ハンドブック

Add: kanyp52 - Date: 2020-11-21 22:14:27 - Views: 1225 - Clicks: 4056

85-88 【特許文献2】英国特許出願公開第2144653号明細書 【0015】 また、LB膜を連続的に累積する方法として、一. 第23節 金属添加酸化亜鉛透明導電膜スパッタ成膜過程におけるプラズマ支援効果. 9 ) 高耐圧SrTiO3薄膜の作製と評価 明渡邦夫,藤川久喜,時任静士,多賀康訓 Highly Insulated SrTiO3 Thin Films Kunio Akedo, Hisayoshi Fujikawa, Shizuo Tokito, Yasunori Taga. 多賀 康訓 中部大学,. スパタリング現象 : 基礎と薄膜・コーティング技術への応用 フォーマット: 図書 責任表示: 金原粲著 出版情報: 東京 薄膜作製応用ハンドブック - 多賀康訓 : 東京大学出版会, 1984. 6930円 アウトバストリートメント ヘアケア・スタイリング 美容・コスメ・香水 kerastase loreal 国内正規品 ロレアル ケラスターゼ ds デンシフィック アドジュネス100ml 洗い流さないスカルプ ヘアトリートメント 10p18jun16. 石山謙吾,多賀康訓,一宮彪彦 Vol.

3.zno系薄膜の応用 4.ミストcvd法の各種酸化物薄膜成膜への応用. カートに商品は入っていません。 前のページに戻る. : 10: 半導体の基礎 / p.

薄膜作製応用ハンドブック フォーマット: 図書 責任表示: 多賀康訓 ほか 編集委員 言語: 日本語 出版情報: 東京 : エヌ・ティー・エス, 1995. 3 t型剥離試験 1. 3 形態: ix, 231p ; 22cm ISBN:著者名: 金原, 粲(1933-) 書誌ID: BN注記: 各章末: 参考文献.

多賀 康訓 豊田中研 多賀 康訓 (株)豊田中央研究所 時任 静士 (株)豊田中央研究所 多賀 康訓 豊田中央研究所 森川 健志 (株)豊田中央研究所 森川. 1 強誘電体薄膜 : 9月2日 9:00~17:30 : 2a-K- / II : 1 (Bi,Pr) 4 Ti 3 O 12 の平均・局所構造と強誘電特性におけるBi 4 Si 3 O 12 添加の影響 東理大理工 小谷浩隆,井手本康,北村尚斗 2: 焼成酸素圧によるBi 4 Ti 3 O 12 薄膜の電気特性変化: 芝浦工大工 1 ,八戸工大工 2 山口正樹 1 ,増田陽一郎 2. つまり、作製された薄膜の機能、実使用時の耐久性および付加価値と費用対効果を考慮した生産性をも視野に入れた薄膜作製技術開発が不可欠である。 全体の構成は、薄膜作製のプロセスの中心に第1編を構成し、発現する機能、応用を第2編に集約した。また、第3編には実用を視野にいれた. 薄膜作製応用ハンドブック / 小川正毅, 多賀康訓編集委員 ; 八瀬清志編集協力委員.

4 誘電体以外の材料への応用 4-1 光通信用石英系導波路膜 4-2 ディスプレイ用蛍光材料 第13章 不純物・コンタミネーション(異物混入)を防ぐには? 第1節 銅の高純度化と薄膜形成 1 銅の耐酸化性 2 銅の. 61 豊田中央研究所R&D レビュー Vol. 1.al添加zno透明導電膜とicp支援マグネトロンスパッタ 2.icp重畳dcマグネトロンスパッタ装置. 權田俊一監修、小川正毅・多賀康訓編『薄膜作製応用ハンドブック』21世紀版、エヌ・ティー・エス、年。 isbn『有機トランジスタの動作性向上技術――材料開発・作製法・素子設計』技術情報協会、年。 isbn. 特定商取引法に. 多賀 康訓 氏(中部大学 薄膜研究センター 特任教授・センター長) 概要:接着・接合は物作り生産技術の一つであり、接合面の表面処理と接合・反応プロセスとで構成され�. 多賀康訓 鈴木寿弘 長江亦周 塩野一郎.

1 Si, 日本結晶成長学会編(株)共立出版, 1995年9月1日発刊, 小出康夫, 安田幸夫. 薄膜の機能と応用: 名古屋大学大学院工学研究科: 安田 幸夫: 16_2: 薄膜のエピタキシャル成長技術: 東京大学先端科学技術研究センター: 白木 靖寛: 16_3: 薄膜界面の制御技術 (株)豊田中央研究所: 多賀 康訓: 16_4: 薄膜作製技術: 東洋大学工学部: 村山 洋一: 16_5. 多賀 康訓 (株)豊田中央研究所の論文や著者との関連性. 機能性薄膜の設計・作製・評価; ハイブリッド薄膜の開発 ; 接着・接合界面の制御; 超親水・撥水表面の創出; 経歴. 1.ミストcvd法とは 2.zno系薄膜の成膜方法と膜厚コントロール 3.zno系薄膜の応用 4.ミストcvd法の各種酸化物薄膜成膜への応用. -- エヌ・ティー・エス,. 元データ 所属 (株)豊田中央研究所 関連著者. 4 剥離確率 2.実験結果 3.考察.

(概要)21世紀版薄膜作製応用ハンドブック ~ 【監修者】 權田 俊一 大阪大学名誉教授・福井工業大学宇宙通信工学科教授 【編集委員】五十音順 小川 正毅 日本電気株研究企画部エグゼクティブエキスパート 多賀 康訓 株豊田中央研究所フェロー・第一特別. カルドナ著 ; 末元徹 ほか 訳. M 21世紀版薄膜作製応用ハンドブック. 薄膜作製応用ハンドブック - 多賀康訓 6.赤外線技術を使用した応用について 7.赤外線溶着展開が可能な対象物について 17節 アルミニウムとポリウレタン樹脂の電子線照射接着技術 1.実験方法 1. 名古屋工業大学卒業後、株式会社豊田中央研究所に入所。デバイス部長を経て理事に就任、その後シニアフェロー、顧問を経て. 35 有機半導体の超高純度化による高効率セルと1000時間動作テスト、平本昌宏、 「有機薄膜太陽電池の高効率化と耐久性向上」第3章第4節、発行:サイエンス. 金原 粲, 多賀 康訓, 吉田 貞史, 森本 章治, 宮崎 誠一, 杉山 正和, 藤田 浩, 安藤 富雄, 田畑 仁, 酒井 朗, 北川 雅俊, 馬場 茂, 財満 鎮明, 近藤 高志, 尾山 卓司, 浅野 種正, 高橋 研, 斉藤 伸, 二本 正昭, 高井 治, 八瀬 清志(担当:共著, 範囲:第4章 4-1 磁性薄膜の基礎). ダイヤモンド薄膜 フォーマット: 図書 責任表示: 犬塚直夫, 澤邊厚仁著 言語: 日本語 出版情報: 東京 : 産業図書, 1987.

化学反応に活用し、特異な表面構造を構築することにより、膜厚100&197;以下の導電性金属超薄膜を作製する。得られる金属超薄膜は光学的に透明で、次世代の有機el デイスプレイ、帯電防止フィルム、it や自動車用各種電磁波制御部品等への応用が可能となる。大掛かりな. 1 試料作製 1. 13:05 ~ 14:05 基調講演導電性高分子と金属界面による機能と電子デバイス (九州工業大学)金藤敬一. 第23節 金属添加酸化亜鉛透明導電膜. 1 S-doped TiO2光触媒の合成. Author: 小川 正毅、多賀 康訓、八瀬 清志、権田 俊一 Publisher: エヌ・ティー・エス (NTS). 多賀康訓: 東京理科大学: 橋詰峰雄: 大阪府立大学: 大久保雅章: 横浜ゴム(株) 荒木公範: 慶應義塾大学: 大宮正毅: 岐阜大学: 高橋紳矢: 大阪市立工業研究所: 大塚恵子: 大阪教育大学: 今中誠: アアベックス(株) 池田修: ヤマセ電気(株) 佐藤昌之: デュポン(株. 36-47, 1995年11月30日発刊, 小出康夫, 村上正紀 「 結晶成長ハンドブック 」 第3章 キーマテリアルのエピタキシー:3.

中部大学 薄膜研究センター. 多賀康訓: 兵庫県立大学 : 部家彰 (株)アルバック. 薄膜作製応用ハンドブック. 会 場:東京工業大学100年記念館(目黒区大岡山2-12-1, Tel) (東急大井町線、目蒲線大岡山駅下車). アークイオンプレーティングによって作製した非晶質窒化炭素薄膜の耐摩耗性 杉村 博之, 田島 信宏, 河田 一喜, 高井 治 年 52 巻 12 号 p. 在庫状況 お取り寄せ. 応用物理学会M&BE研究会 「有機ELの基礎過程 ---高機能化のための方策 ---」 日 時 :1998(平成11)年3月9日(火)10時~17時.

多賀康訓 (株)アルバック : 小林大士 (株)アルバック. DOORSは同志社大学の学術情報検索システムの名称です。蔵書を検索して、資料の所在や利用状況を知ることができます。DOGS Plus、学術リポジトリ、同志社女子大学、CiNii Books、CiNii Articles、NDLサーチを検索することもできます。. researchmap is provided by Japan Science and Technology Agency. スパタリング現象 : 基礎と薄膜・コーティング技術への応用 フォーマット: 図書 責任表示: 金原粲著 言語: 日本語 出版情報: 東京 : 東京大学出版会, 1984.

3 薄膜作製 3-1 鉄薄膜の作製. 2 電子線(eb)照射処理 1. 電気設備学会 図書・出版物申込. 2 表面へ金属化合物を添加したN-doped TiO2光触媒の特性 3.チオゾルゲル法により作製したS-doped TiO2光触媒 3. 元データ 所属 中部大学総合工学研究所 関連著者.

- 東京 : シュプリンガー・フェアラーク東京, 1999. 1 (3) ・ブルッカイド型酸化チタンをベースとする可視光応答型光触媒 田中淳 118; 第3章 3. 11 形態: 23, 1187, 26p ; 27cm 著者名: 権田, 俊一(1936-) 多賀, 康訓 塚田, 俊久 平尾, 孝 書誌ID: BN13515927.

14:05 ~ 14:45: 有機半導体の溶液結晶成長と薄膜. テーマ「地球環境保全と薄膜表面技術」 総論-地球環境保全と薄膜表面技術: 地球環境産研・和佐清孝 Si薄膜太陽電池: 三洋電機ニューマテリアル研・津田信哉 薄膜環境センサ: 松下電器中研・平尾孝 自動車用ガラスの表面処理: 豊田中研・多賀康訓 薄膜触媒の"in situ" 活性化: 長岡. 1 一般的なcigs系太陽電池の紹介 第1節 光学薄膜の高精度高. 21世紀版薄膜作製応用ハンドブックから17年、 技術や応用分野は大きく進展。 基礎を押さえ、マテリアルズ・インフォマティクスと 機械学習による薄膜装置、量子効果デバイス、 ペロブスカイト太陽電池、人工光合成、グラフェンを はじめとする二次元材料.

光学薄膜 の最適設計. , 多賀 康訓 著. 第22節 ミストcvd法によるzno系薄膜の成膜と透明導電膜・光学薄膜応用. 1.事後評価の趣旨 研究成果最適支援プログラム(a-step)シーズ育成タイプfs は、「シーズ育成タイプ」として提案された課題の中から、本格実施に先立つフィージビリティスタディとして、大学等の研究成果に基づくシーズ技術の実現可能性を産学共同で検証することを目的に採択しています。.

版 薄膜作製応用ハンドブック. 14p-C9-3>出原聡一, 伊藤弘志, 二宮善彦, 佐藤 厚, 多賀康訓, 山田直臣:「Co 3 O 4 エピタキシャル薄膜の輸送特性」 14p-H7-5>清水航, 二宮善彦, 佐藤厚, 山田直臣:「Al:ZnOの低温エピタキシャル成長」. 3.高屈折率膜の作製 4.セルパターンの出現 5.フォトリソグラフィーによる 光導波路、微細パターンの作製 第4節 化合物太陽電池用ターゲット材料 1.cigs系太陽電池 1.

大脇健史 多賀康訓 1.はじめに 2.表面へ金属化合物を添加したN-doped TiO2光触媒 2. 1 InTaO 4 光触媒表面における水分子の運動について 物材機構 押切光丈; 2 LiFドーピングによるITO成膜 中部大工 小林大輔,多賀康訓; 3 有機EL素子用ITO薄膜の検討 新潟大 1 ,東京工芸大 2 劉 暢 1 ,中村陽平 1 ,松井博章 1 ,清水英彦 1 ,岩野春男 1 ,福嶋康夫 1 ,永田向太郎 1 ,星 陽一 2. 齋藤文良、多賀康訓、発行:技術教育出版社&(株)エヌ・ティー・エス、pp.

多賀 康訓 中部大学総合工学研究所の論文や著者との関連性. 日本分光学会、応用物理学会、日本物理学会、日本化学会ほか : プログラム : 13:00 ~ 13:05: 開会の挨拶 (日本真空協会関西支部支部長)橘 邦英. 多賀康訓: 目 次 第1章 薄膜の損傷・微小欠陥を防ぐには?. 1 (3) ・窒素ドープによる酸化チタン光触媒の可視光応答化 森川健志,多賀康訓 116; 第3章 3. 21世紀版薄膜作製応用ハンドブックから17年、技術や応用分野は大きく進展。 基礎を押さえ、マテリアルズ・インフォマティクスと機械学習による薄膜装置、量子効果デバイス、ペロブスカイト太陽電池、人工光合成、グラフェンをはじめとする二次元材料の合成法など新規応用分野も充実!. 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会、プラズマ・核融合学会、 表面技術協会、日本接着学会、色材協会。. 6 薄膜・表面: 6. 1 光触媒の作製 2.

多賀康訓 21世紀版薄膜作製応用ハンドブック, (), 808~ 819, エヌ・ティー・エス 第3編 第2章 第7節 薄膜の表面・界面制御と信 頼性 多賀康訓 21世紀版薄膜作製応用ハンドブック, (), 1063 ~1072, エヌ・ティー・エス 野々村裕 第4編 第5章 第3節 磁気センサ. 1 (3) ・可視光増感型光触媒 西川貴志 120. researchmap is an information sharing platform for the researchers. 豊田中研o時任静士,野田浩司,多賀康訓 セイコーエプソン・基盤技術研 横山 修,宮下 悟,下田達也多色発光有機EL素子 大阪大(院)工 大森 裕会 告 幹事候補者投票のお知らせ第37回幹事会(1998年9月16日)議事録会議のお知らせ M&BE講習会「デバイス作製のための. アト厶プローブの最近の動向と磁性薄膜の微細組織解析への応用 宝野和博,桜井利夫 Vol.

3 形態: ix, 231p ; 22cm 著者名: 金原, 粲(1933-) 書誌ID: BNISBN:. 「薄膜作製応用ハンドブック」, 第2章,第1節 導電体薄膜,1.金属, (株)NTS p. 4 エピタキシャル薄膜の正孔輸送特性 山田直臣,出原聡一*,多賀康訓 Hole Transport Properties of Co 3 O 4 Epitaxial Films Naoomi Yamada,Toshikazu Izuhara* and Yasunori Taga Abstract: We have fabricated an electrical measurement system which allows us to simultaneously determine temperature dependent electrical conductivites and thermoelectric powers of. 【非特許文献16】「薄膜作製応用ハンドブック」権田俊一監修:多賀康訓、塚田俊久、平尾孝編 東京:エヌ・ティー・エス(1995)p508〜514 【非特許文献17】Thin Solid Films,pp. 多賀 康訓 中部大学総合工学研究所 多賀 康訓 豊田中研 大脇 健史 (株)豊田中央研究所 時任 静士 (株)豊田中央研究所 旭 良司 豊田中研 旭 良司 (株)豊田中央. SIMS-ESDMS複合技法によるバックグランドピークの干渉のない最表面分析 関 節子,住谷弘幸,田村一二三 Vol. 薄膜材料の特性と特徴、薄膜の作製と加工、薄膜・表面・界面の分析と評価、薄膜技術の応用と展望を述べる。95年刊の21世紀版。 目次.

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